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キヤノンは3日続伸、ウエハー平坦化の新技術を開発し27年中の製品化へ
配信日時:2026/01/14 09:21
配信元:MINKABU
キヤノン<7751.T>は3日続伸している。13日の取引終了後、独自に開発したインクジェット方式でレジスト(樹脂)を塗布したウエハーに回路パターンを刻み込んだマスク(型)をハンコのように押し当てて回路を転写する技術を応用して、ウエハーを平坦化する新技術を開発し、世界で初めて実用化したと発表しており、好材料視されている。
半導体製造では、成膜や配線などの工程を重ねる中で生じるウエハー表面の凹凸を均一に整える平坦化工程が不可欠で、特に微細化や3D化が進む先端半導体では、ウエハー表面のわずかな凹凸が歩留まりや生産性に大きな影響を与えている。同社では今回開発した新技術を用いることで、ウエハー表面の凹凸を5ナノ(ナノは10億分の1)メートル以下に抑えることができるとしており、歩留まり改善への期待が高まる。なお、27年中の製品化を目指すとしている。
出所:MINKABU PRESS
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